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半導(dǎo)體檢測量測設(shè)備行業(yè)研究:芯片良率守護(hù)者,短板突破正當(dāng)時

更新時間:2023-11-10      點(diǎn)擊次數(shù):22

一、質(zhì)量控制把關(guān)良率,多種設(shè)備各司其職

(一)芯片制造過程中會產(chǎn)生缺陷,質(zhì)量控制設(shè)備把關(guān)良品率


芯片制造過程中會產(chǎn)生顆粒、互聯(lián)、靜電損傷等工藝缺陷。以芯片前道制程為例, 其具體缺陷包括:空氣中的分子污染或由環(huán)境引起的有機(jī)物或無機(jī)物顆粒;工藝過 程引起的劃痕、裂紋和顆粒、覆蓋層缺陷和應(yīng)力;在從掩模到晶片的圖形轉(zhuǎn)移過程 中,由于設(shè)計偏差導(dǎo)致的布局和關(guān)鍵尺寸的偏差和變化;原子通過層和半導(dǎo)體散裝 材料的擴(kuò)散等。 隨著工藝節(jié)點(diǎn)尺寸降低,集成電路前道制程步驟越來越多,致命缺陷數(shù)量也隨著增 多,進(jìn)而影響良率。28nm工藝節(jié)點(diǎn)的工藝步驟有數(shù)百道工序,14nm及以下節(jié)點(diǎn)工 藝步驟增加至近千道工序。根據(jù)YOLE的統(tǒng)計,工藝節(jié)點(diǎn)每縮減一代,工藝中產(chǎn)生的 致命缺陷數(shù)量會增加 50%,因此每一道工序的良品率都要保持在非常高的水平才能 保證最終的良品率。當(dāng)工序超過500道時(對應(yīng)14nm及以下制程),只有保證每一 道工序的良品率都超過99.99%,最終的良品率方可超過95%;當(dāng)單道工序的良品率 下降至99.98%時,最終的總良品率會下降至約90%。



(二)質(zhì)量控制貫穿制造全流程,包括測試和過程工藝控制兩大類


(1)測試:包括設(shè)計驗(yàn)證、CP測試(晶圓測試)、FT測試(成品測試)。主要進(jìn) 行電學(xué)參數(shù)測量,具體分為參數(shù)測試(如短路測試、開路測試、最大電流測試等DC 參數(shù)測試,傳輸延遲測試、功能速度測試等AC參數(shù)測試)和功能測試。主要設(shè)備是 測試機(jī)、分選機(jī)和探針臺。


(2)過程工藝控制:根據(jù)工藝可細(xì)分為檢測(Inspection)和量測(Metrology) 兩大類型。①檢測:在晶圓表面上或電路結(jié)構(gòu)中,檢測其是否出現(xiàn)異質(zhì)情況,如顆 粒污染、表面劃傷、開短路等對芯片工藝性能具有不良影響的特征性結(jié)構(gòu)缺陷;②量測:對被觀測的晶圓電路上的結(jié)構(gòu)尺寸和材料特性做出的量化描述,如薄膜厚度、 關(guān)鍵尺寸、刻蝕深度、表面形貌等物理性參數(shù)的量測。



(三)過程工藝控制的技術(shù)路徑包括光學(xué)、電子束、X 光三大類


檢測技術(shù)的波長等基本屬性決定了檢測精度和速度,進(jìn)而影響靈敏度、吞吐量等生 產(chǎn)性能參數(shù)。(1)光學(xué)檢測:相對較好均衡高精度和高速度,檢測速度可以較電子 束檢測技術(shù)快1000倍以上,廣泛應(yīng)用于晶圓制造各個環(huán)節(jié),同時光學(xué)檢測能夠滿足 其他技術(shù)所不能實(shí)現(xiàn)的功能,如三維形貌測量等;(2)電子束檢測:波長遠(yuǎn)短于光 的波長,檢測精度更高,但是檢測速度較慢,主要應(yīng)用于吞吐量要求較低的環(huán)節(jié), 如納米量級尺度缺陷的復(fù)查,部分關(guān)鍵區(qū)域的表面尺度量測以及部分關(guān)鍵區(qū)域的抽 檢等;(3)X光:主要利用其吸收特性,穿透力強(qiáng),應(yīng)用于特定的場景,如檢測超 薄膜厚度、檢測特定金屬成分等。


光學(xué)檢測均衡速度與精度,是過程工藝控制的主要技術(shù)路徑。根據(jù) VLSI Research、 QY Research統(tǒng)計,2020年全球半導(dǎo)體檢測和量測設(shè)備市場中,應(yīng)用光學(xué)、電子束、 X光技術(shù)的設(shè)備市場份額占比分別為75.2%、18.7%、2.2%。在檢測領(lǐng)域,光學(xué)技術(shù) 主要應(yīng)用于無圖形晶圓激光掃描檢測、圖形晶圓成像檢測、光刻掩膜板成像檢測等; 量測領(lǐng)域主要包括三維形貌量測、薄膜膜厚量測、套刻精度量測、關(guān)鍵尺寸量測。


二、中國檢測量測市場超二十億美元,國產(chǎn)化率較低

(一)中國大陸為半導(dǎo)體檢測、量測設(shè)備的第一大市場


受行業(yè)周期性和美國制裁影響,2023年中國半導(dǎo)體設(shè)備投資額逐漸收緊。根據(jù)semi 數(shù)據(jù),預(yù)計2023年中國本土、外資企業(yè)半導(dǎo)體設(shè)備投資額為86、39億美元,同比-53%、 -25%,主要原因系全球芯片下游的庫存修正和美國對中國先進(jìn)制程產(chǎn)品的出口管制。 過程工藝控制國產(chǎn)化率尚低,行業(yè)Capex下修的影響有限。中國半導(dǎo)體設(shè)備國產(chǎn)化 率仍處于相對低位,且目前國產(chǎn)檢測、量測設(shè)備大多面對28nm以上的成熟制程環(huán)節(jié), 半導(dǎo)體資本開支下修對其影響有限。 根據(jù)VLSI Research、QY Research統(tǒng)計,中國大陸為全球半導(dǎo)體檢測+量測設(shè)備 第一大市場,2020年市場空間達(dá)21億美元。16-20年,全球半導(dǎo)體檢測+量測設(shè)備市 場規(guī)模由47.6億美元增長到76.5億美元,四年CAGR 12.6%,中國大陸市場規(guī)模由 7.0億美元增長至21.0億美元,四年CAGR為31.6%,增速大幅快于全球。2020年, 中國大陸半導(dǎo)體過程工藝控制設(shè)備全球占比為27%,超過中國臺灣位列全球第一。



(二)設(shè)備應(yīng)用于前道和先進(jìn)封裝各環(huán)節(jié),國產(chǎn)替代空間大


2020年全球過程工藝控制設(shè)備占半導(dǎo)體設(shè)備投資額的11%,目前該設(shè)備國產(chǎn)化率低 于10%,國產(chǎn)替代空間較大。根據(jù)SEMI和VLSI Research數(shù)據(jù),2020年,過程工藝 控制檢測設(shè)備和半導(dǎo)體測試設(shè)備的市場規(guī)模分別為76.5、60.1億美元,在半導(dǎo)體設(shè) 備中占據(jù)的份額為10.6%、8.4%。根據(jù)中國招標(biāo)網(wǎng)數(shù)據(jù),2018-2021年,過程工藝 控制和半導(dǎo)體檢測兩類設(shè)備的國產(chǎn)化率低于10%,國產(chǎn)替代還有較大空間。 過程工藝控制中檢測、量測設(shè)備市場份額分別為62.6%、33.5%,廣泛應(yīng)用于前道 制程和先進(jìn)封裝的各環(huán)節(jié)。根據(jù)VLSI Research劃分,全球過程工藝控制設(shè)備共包 含檢測6類、量測8類共計14小類。從半導(dǎo)體主要工藝環(huán)節(jié)看,光刻、刻蝕、離子注 入、CMP等環(huán)節(jié)對量檢、檢測設(shè)備需求量較大。


(三)本土企業(yè)率先布局高應(yīng)用寬度、低技術(shù)壁壘領(lǐng)域


根據(jù)各檢測量測設(shè)備市場空間、設(shè)備應(yīng)用寬度、設(shè)備難度壁壘構(gòu)建技術(shù)矩陣圖,其 中市場空間引用自VLSI Research統(tǒng)計的2020年全球各檢測量測設(shè)備市場規(guī)模,設(shè) 備應(yīng)用寬度以各設(shè)備在前道制程和先進(jìn)封裝領(lǐng)域所涉及的環(huán)節(jié)總數(shù)表示,設(shè)備難度 壁壘以各設(shè)備在科磊半導(dǎo)體、中科飛測等共計14家海內(nèi)外設(shè)備公司產(chǎn)品線中的被覆 蓋程度表示。結(jié)論如下:


(1)寬應(yīng)用低壁壘:以無圖形晶圓檢測、圖形晶圓檢測、關(guān)鍵尺寸量測為代表,此 類設(shè)備在半導(dǎo)體制造過程中應(yīng)用環(huán)節(jié)更多,市場空間相對較大,且技術(shù)壁壘相對較 低,為國產(chǎn)廠商率先替代領(lǐng)域,以中科飛測、上海睿勵等廠商為代表的本土廠商以 率先進(jìn)行布局并獲得市場認(rèn)可。


(2)窄應(yīng)用高壁壘:以納米圖形晶圓檢測、套刻精度量測、掩膜版檢測/量測為代 表,此類設(shè)備重點(diǎn)應(yīng)用于光刻等晶圓制造核心環(huán)節(jié),且深度參與光刻工藝,對制程 節(jié)點(diǎn)較為敏感。同時,通常來說設(shè)備的最小靈敏度是生產(chǎn)工藝節(jié)點(diǎn)的0.5-1倍左右的 關(guān)系,因此納米級晶圓檢測對設(shè)備要求更高,相應(yīng)設(shè)備單價更貴,市場空間更大。 此類設(shè)備提供商以科磊半導(dǎo)體、應(yīng)用材料、阿斯麥爾等海外廠商為主,同時天準(zhǔn)科 技通過并購德國公司MueTec進(jìn)軍掩膜版、套刻精度量測領(lǐng)域。



三、競爭梯隊分明,本土企業(yè)快速切入市場

(一)市占率:海外龍頭占據(jù)競爭高地,本土企業(yè)市占率逐漸提升


海外龍頭平臺化優(yōu)勢明顯,發(fā)展歷史悠久產(chǎn)品系列全。量測和檢測設(shè)備的主要競爭 者包括以應(yīng)用材料為代表的半導(dǎo)體設(shè)備平臺化公司,以及以科磊半導(dǎo)體、創(chuàng)新科技 為代表的半導(dǎo)體質(zhì)量控制設(shè)備龍頭。海外頭部公司大都成立于上世紀(jì)七十年代及之 前,并歷經(jīng)企業(yè)合并和產(chǎn)品線拓展,營收規(guī)模較大。2021年,應(yīng)用材料、科磊半導(dǎo) 體、創(chuàng)新科技營業(yè)收入分別為1476.0、367.0、50.5億元。


國內(nèi)競爭者分為內(nèi)生、外延兩大陣營。(1)內(nèi)生:國內(nèi)以中科飛測、上海精測、上 海睿勵(中微公司持股29%)為代表的競爭者依托既有檢測產(chǎn)品優(yōu)勢,向半導(dǎo)體領(lǐng) 域進(jìn)行產(chǎn)品拓展,在無圖形晶圓檢測、膜厚量測、關(guān)鍵尺寸量測等細(xì)分領(lǐng)域開始拓 展市場,2021年營業(yè)收入為3.6、1.1、0.4億元;(2)外延:長川科技、賽騰股份、 天準(zhǔn)科技等公司通過收購海外STI、Optima、MueTec公司快速切入賽道,其2021 年營業(yè)收入分別為5.7、1.2、0.4億元,海外公司具備一定的技術(shù)優(yōu)勢和客戶優(yōu)勢, 本土企業(yè)通過收并購以實(shí)現(xiàn)業(yè)務(wù)外延與產(chǎn)業(yè)協(xié)同。


本土企業(yè)以及并購子公司業(yè)務(wù)體量相對較小,盈利能力弱于海外龍頭。2021年科磊 半導(dǎo)體的營業(yè)收入、凈利潤分別為398、140億元,而本土企業(yè)或其海外子公司的營 收規(guī)模在10億元之內(nèi),凈利潤小于1億元,整體的業(yè)務(wù)體量相對較小。從盈利能力看, 本土企業(yè)及其海外子公司毛利率、凈利率仍具備較大的成長空間。



科磊半導(dǎo)體占據(jù)檢測+量測半壁江山,全球競爭集中度高。2020年,科磊半導(dǎo)體、 應(yīng)用材料、日立、創(chuàng)新科技、雷泰光電、阿斯麥爾、新星測量儀器、康特科技在全 球檢測、量測市場的市占率分別為51%、12%、9%、6%、5%、5%、3%、2%,合 計CR8達(dá)92%。


以中科飛測為代表的國內(nèi)競爭者市占率持續(xù)提升。2018-2021年,中科飛測國內(nèi)市 占率由0.4%提升至1.7%,產(chǎn)品市場認(rèn)可度逐漸增加。


(二)產(chǎn)品線:本土企業(yè)產(chǎn)品覆蓋日趨健全,核心產(chǎn)品已獲市場認(rèn)可


1. 海外公司在各產(chǎn)品線深度和廣度占據(jù)優(yōu)勢地位 科磊半導(dǎo)體對于量測+檢測產(chǎn)品線覆蓋率達(dá)85.3%,且?guī)缀踉诿恳粋€所涉產(chǎn)品線中均 位列頭位;應(yīng)用材料、創(chuàng)新科技等公司產(chǎn)品覆蓋率分別為49.0%、37.0%,并在電子 束缺陷復(fù)檢等細(xì)分領(lǐng)域占據(jù)優(yōu)勢。


2. 本土企業(yè)通過自主研發(fā)拓展產(chǎn)品線,預(yù)計短期內(nèi)產(chǎn)品覆蓋率將大幅提升 目前中科飛測、東方晶源、上海微電子、上海睿勵批量銷售產(chǎn)品所能覆蓋的產(chǎn)品份 額分別為19.9%、13.8%、16.0%、3.5%,與此同時,各企業(yè)紛紛進(jìn)行品類拓展, 若包含在驗(yàn)證及小批量出貨產(chǎn)品,中科飛測、上海睿勵的產(chǎn)品份額覆蓋率將達(dá)37.9%、 29.7%,具體表現(xiàn)為:


(1)中科飛測:①核心產(chǎn)品:無圖形晶圓缺陷檢測、圖形晶圓缺陷檢測、三維形貌 量測、晶圓介質(zhì)薄膜量測設(shè)備已實(shí)現(xiàn)批量銷售,構(gòu)成公司營收主體。②拓展產(chǎn)品: 量測、檢測產(chǎn)品向納米圖形晶圓缺陷檢測、套刻精度量測、關(guān)鍵尺寸量測、晶圓金 屬薄膜量測設(shè)備領(lǐng)域拓展,目前,除納米圖形晶圓缺陷檢測設(shè)備尚處于設(shè)計階段外, 其余三類產(chǎn)品已處于產(chǎn)業(yè)化驗(yàn)證階段,其中套刻精度量測設(shè)備(型號十七)已取得 兩家客戶的訂單。產(chǎn)品覆蓋度由19.9%預(yù)計提升18.0pct至37.9%。


(2)上海睿勵:①核心產(chǎn)品:TFX4000系列薄膜厚度量測設(shè)備,應(yīng)用于12英寸大 規(guī)模集成電路前端、化合物半導(dǎo)體生產(chǎn)線,可量測透明或半透明介質(zhì)材料、金屬硅化物等半導(dǎo)體材料薄膜。②拓展產(chǎn)品:WSD200、300等系列外觀缺陷檢測設(shè)備,應(yīng) 用于8寸及12寸圖形或無圖形晶圓檢測;TFX3000 OCD等系列產(chǎn)品,除具有300mm 全自動光學(xué)膜厚測量能力外,還可以進(jìn)行關(guān)鍵尺寸量測。產(chǎn)品覆蓋度由3.5%預(yù)計提 升26.2pct至29.7%。


3. 本土企業(yè)通過并購海外子公司獲得較寬的產(chǎn)品線,有利于發(fā)揮協(xié)同優(yōu)勢


MueTec等公司產(chǎn)品線雖然較廣,但資金實(shí)力和產(chǎn)品全球競爭力相對較弱,通過收并 購有利于充分發(fā)揮產(chǎn)業(yè)協(xié)同優(yōu)勢。長川科技(STI)、賽騰股份(Optima)、天準(zhǔn) 科技(MueTec)所能覆蓋的產(chǎn)品份額分別為6.3%、9.7%、50.5%,具體表現(xiàn)為:


(1)長川科技(STI):聚焦于光學(xué)檢測領(lǐng)域,除提供分選、測試設(shè)備之外,其iFcous 晶圓光學(xué)檢測機(jī)能在晶圓制造前道、封裝環(huán)節(jié)進(jìn)行晶圓檢測。其主要客戶為德州儀 器、美光、意法半導(dǎo)體、三星、日月光、安靠技術(shù)等。


(2)賽騰股份(Optima):主要從事半導(dǎo)體晶圓檢查設(shè)備和曝光設(shè)備的開發(fā),其 主要產(chǎn)品為無圖形晶圓缺陷檢測設(shè)備,包括硅片邊緣缺陷、晶圓背面、針孔缺陷檢 測機(jī),其主要客戶為三星、索尼等。


(3)天準(zhǔn)科技(MueTec):深耕檢測量測行業(yè)30余年,其檢測產(chǎn)品包括晶圓宏觀 缺陷、晶圓微缺陷、晶圓切割后、掩膜版、紅外線檢測設(shè)備,量測產(chǎn)品包括關(guān)鍵尺 寸、套刻精度、薄膜膜厚、掩膜版、紅外線量測設(shè)備。主要服務(wù)于晶圓制造、先進(jìn) 封裝、光掩模版、MEMS、OLED、LED等先進(jìn)制造商,主要客戶包括英飛凌、恩智 浦、臺積電等。



(三)先進(jìn)制程:細(xì)分品類研發(fā)驗(yàn)證為主,部分領(lǐng)域獲得突破


海外企業(yè)大都具備先進(jìn)制程覆蓋能力,本土企業(yè)細(xì)分產(chǎn)品研發(fā)端持續(xù)突破,部分產(chǎn) 品已通過客戶驗(yàn)證。海外科磊半導(dǎo)體、應(yīng)用材料、創(chuàng)新科技、新星測量儀器均能覆蓋28nm以下先進(jìn)制程。本土企業(yè)中,上海睿勵薄膜膜厚測量TFX4000i系列設(shè)備突 破5nm制程,產(chǎn)品已交付客戶,同時TFX3000系列產(chǎn)品正在14nm芯片生產(chǎn)線進(jìn)行驗(yàn) 證;中科飛測套刻精度量測適用于2Xnm以下制程,已取得兩家客戶訂單,同時應(yīng)用 于1Xnm的無圖形晶圓缺陷檢測設(shè)備正在研發(fā)中。


四、內(nèi)生+外延,中國檢測量測企業(yè)發(fā)展?jié)摿薮?/p>

(一)深耕質(zhì)量控制行業(yè),產(chǎn)品品類持續(xù)拓展


1. 中科飛測:打破國外壟斷,細(xì)分領(lǐng)域?qū)?biāo)海外龍頭


中科飛測的檢測量測設(shè)備主要應(yīng)用于28nm及以上制程的半導(dǎo)體晶圓制造(前道)和 先進(jìn)封裝(中道)環(huán)節(jié),在部分細(xì)分領(lǐng)域填補(bǔ)了國內(nèi)高端半導(dǎo)體質(zhì)量控制設(shè)備市場 的空白。中科飛測基于光學(xué)技術(shù),生產(chǎn)銷售無圖形晶圓缺陷、圖形晶圓缺陷等檢測 設(shè)備,以及三維形貌、薄膜膜厚、3D曲面玻璃等量測設(shè)備,2021年在檢測、量測設(shè) 備營收占比分別為74%、26%,在前道晶圓制造、中道先進(jìn)封裝、精密加工及其他 領(lǐng)域的營收占比分別為65%、33%、2%。其中,中科飛測的無圖形晶圓缺陷檢測(S2 產(chǎn)品)、三維形貌量測(C2產(chǎn)品)等設(shè)備在長江存儲等頭部客戶中對科磊半導(dǎo)體 (Surfscan SP產(chǎn)品)、帕克公司(NX Wafer產(chǎn)品)等海外廠商設(shè)備形成替代,成 功打破國外廠商壟斷,并實(shí)現(xiàn)了國內(nèi)本土企業(yè)的銷售突破。


公司收入端躍進(jìn)式成長。2018-2021年,公司營業(yè)收入分別為0.3、0.6、2.4、3.6億 元,分別同比+87.5%、324.4%、51.8%,期間三年CAGR為129.4%。公司收入端 高速成長主要系(1)銷量:公司檢測設(shè)備自2017年通過下游知名客戶驗(yàn)證后,口 碑效應(yīng)明顯,產(chǎn)品迅速獲得市場廣泛認(rèn)可,帶動設(shè)備銷量的快速增長;(2)售價: 公司持續(xù)對各系列設(shè)備進(jìn)行優(yōu)化升級,逐步進(jìn)入更高端市場,因此公司產(chǎn)品銷售均 價呈現(xiàn)上升態(tài)勢,進(jìn)一步帶動收入的增長。 高研發(fā)投入利潤蟄伏,市場認(rèn)可度提升盈利凸顯。2018-2021年公司歸母凈利潤分 別為-0.6、-1.0、0.4、0.5億元,較高的期間費(fèi)用使得公司歸母凈利潤承壓,其中較 高的研發(fā)投入影響較大,2021年公司研發(fā)支出合計1.0億元,研發(fā)費(fèi)用率達(dá)26.4%。 在盈利能力方面,公司設(shè)備逐步獲得市場驗(yàn)證,核心設(shè)備設(shè)備量價齊升,帶動公司 毛利率由2018年的23.7%提升25.3pct至2021年的49.0%。


山雨欲來風(fēng)滿樓,在手訂單數(shù)倍于營收,彰顯業(yè)績前瞻性。2019-2021年公司在手 訂單分別為1.2、2.6、8.8億元,同比+823.9%、+125.2%、+237.2%,其中2021年 在手訂單為當(dāng)期主營業(yè)務(wù)收入、存貨的2.4、1.6倍;2021年公司新簽訂單9.8億元, 為當(dāng)期主營業(yè)務(wù)收入的2.7倍。



中科飛測在細(xì)分產(chǎn)品領(lǐng)域逐漸突破海外壟斷打開國內(nèi)市場。結(jié)合歷史數(shù)據(jù),假設(shè) 2021年中國檢測量測設(shè)備占半導(dǎo)體設(shè)備投資比重約為13%,可以測算出其市場空間 約為32億美元,約204.8億元。假設(shè)中國各量測、檢測設(shè)備市場占比與全球相同,則 可計算出中國無圖形晶圓缺陷檢測設(shè)備、圖形晶圓缺陷檢測設(shè)備、薄膜膜厚量測設(shè) 備、三維形貌量測設(shè)備的市場空間分別為19.9、12.9、6.1、1.8億元,中科飛測產(chǎn) 品的市占率分別為8.6%、7.4%、2.9%、38.1%。


(二)收購整合海外公司,快速抓住發(fā)展紅利


1. 長川科技收購STI:IC制造質(zhì)量控制設(shè)備平臺化發(fā)展


長川科技平臺化布局半導(dǎo)體質(zhì)量控制設(shè)備領(lǐng)域,其優(yōu)勢產(chǎn)品為半導(dǎo)體分選機(jī)、測試 機(jī),2021年營收占比分別為62.0%、32.4%。2017-2021年公司營業(yè)收入、歸母凈利 潤以64.8%、39.4%的復(fù)合增長率成長至15.1、2.2億元,根據(jù)公司業(yè)績預(yù)告,預(yù)計 2022年實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤4.5-5.2億元,同比+106.2%~+138.3%。



2019年,長川科技通過發(fā)行股份的方式購買長新投資,其實(shí)際經(jīng)營主體為新加坡 STI。截至2022年6月底,長新投資為長川科技的全資子公司,STI作為全資控股公 司獨(dú)立運(yùn)營。STI主要從事集成電路封裝檢測設(shè)備商的研發(fā)和生產(chǎn),通過收購STI, 長川科技在技術(shù)研發(fā)、客戶和銷售渠道等方面與之形成了優(yōu)勢互補(bǔ)和協(xié)同。 STI憑借2D/3D高精度光學(xué)檢測技術(shù),提供光學(xué)檢測、分選、編帶等功能的集成電路 封裝檢測設(shè)備,具體包括轉(zhuǎn)塔式、平移式、膜框架測編一體機(jī)以及晶圓光學(xué)檢測機(jī), 以2018Q1-3 STI經(jīng)營數(shù)據(jù)為例,Hexa、iSort測編一體機(jī)為公司應(yīng)收主體,iFcous 晶圓檢測量測設(shè)備,營收占比相對較小。 STI的核心管理團(tuán)隊來源于德州儀器在新加坡的工藝自動化中心,全球維度產(chǎn)品推廣。 STI在AOI設(shè)備制造相關(guān)領(lǐng)域均具有超過25年的工作經(jīng)驗(yàn),其業(yè)務(wù)范圍遍布全球,在 馬來西亞、韓國、菲律賓擁有3家子公司,并在中國大陸和泰國擁有專門的服務(wù)團(tuán)隊。 STI產(chǎn)品的下游客戶包括德州儀器、美光、意法半導(dǎo)體、三星等大型半導(dǎo)體生產(chǎn)公司 及日月光、安靠技術(shù)等世界一流的半導(dǎo)體封裝和測試外包服務(wù)商,其中,STI為德州 儀器頒發(fā)的全球50家優(yōu)秀設(shè)備供應(yīng)商之一。


2. 賽騰股份收購Optima:以自動化設(shè)備為錨,進(jìn)軍晶圓檢測領(lǐng)域


賽騰股份聚焦于自動化領(lǐng)域,主要產(chǎn)品為消費(fèi)電子、汽車零部件、半導(dǎo)體、光伏等 智能組裝及檢測設(shè)備。其中在消費(fèi)電子領(lǐng)域,公司作為蘋果供應(yīng)鏈的合作廠商,合 作深度正在持續(xù)拓展;在汽車新能源板塊與日本電產(chǎn)、村田新能源、松下能源等客 戶建立了長期穩(wěn)定的合作關(guān)系;在半導(dǎo)體晶圓檢測板塊,公司擁有 Sumco、三星、 協(xié)鑫、奕斯偉、中環(huán)半導(dǎo)體、金瑞泓等優(yōu)質(zhì)客戶。2017-2021年公司營業(yè)收入、歸 母凈利潤以41.9%、30.1%的復(fù)合增長率成長至23.2、1.8億元,根據(jù)公司業(yè)績預(yù)告, 預(yù)計2022年實(shí)現(xiàn)歸母凈利潤2.9-3.3億元,同比+61.7%~+81.2%。


Optima主要從事半導(dǎo)體晶圓檢測設(shè)備生產(chǎn)銷售。2019年,賽騰股份現(xiàn)金收購日本公 司Optima株式會社,進(jìn)軍晶圓檢測裝備領(lǐng)域。截至2022年6月底,賽騰股份持有 Optima74.1%的股權(quán)。Optima的主要產(chǎn)品為晶圓檢測設(shè)備,包括硅片邊緣缺陷自動 檢測、晶圓片用背面檢測、邊緣/表背面復(fù)合檢測、針孔缺陷檢測設(shè)備,其主要客戶 為三星、索尼等。Optima與賽騰股份同屬于自動化設(shè)備研發(fā)制造行業(yè),二者實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)協(xié)同并將賽騰股份產(chǎn)品線向高端半導(dǎo)體檢測設(shè)備領(lǐng)域進(jìn)一步延伸。2019-2021年, Optima營業(yè)收入分別為0.9、1.5、1.2億元,受行業(yè)周期影響業(yè)績波動。



3. 天準(zhǔn)科技收購MueTec:檢測量測產(chǎn)品寬度廣,掩膜版等領(lǐng)域添補(bǔ)空白


天準(zhǔn)科技深耕于機(jī)器視覺領(lǐng)域,產(chǎn)品向多下游拓展。天準(zhǔn)科技主要產(chǎn)品包括視覺測 量裝備、視覺檢測裝備、視覺制程裝備和智能網(wǎng)聯(lián)方案等,下游主要向半導(dǎo)體及泛 半導(dǎo)體、新能源汽車、消費(fèi)電子等領(lǐng)域,提供機(jī)器視覺裝備產(chǎn)品,2021年伊始,公 司下游應(yīng)用由消費(fèi)電子單一行業(yè)進(jìn)一步向光伏、汽車等領(lǐng)域分散化,有利于抵御單 一行業(yè)周期性波動。2017-2021年公司營業(yè)收入、歸母凈利潤以47.6%、33.6%的復(fù) 合增長率成長至12.7、1.3億元。


天準(zhǔn)科技于2021年5月以1819萬歐元完成收購德國MueTec公司100%股權(quán)。 MueTec的主要產(chǎn)品為高精度的光學(xué)測量和檢測解決方案,具備較強(qiáng)的技術(shù)實(shí)力,但 受限于產(chǎn)能和資金制約,2021年營業(yè)收入僅為0.4億元。天準(zhǔn)科技積極推動MueTec 相關(guān)業(yè)務(wù)整合:(1)產(chǎn)能端:在中國建設(shè)相關(guān)產(chǎn)品產(chǎn)能支撐業(yè)務(wù)增長并進(jìn)行國內(nèi)市 場推廣;(2)技術(shù)端:積極推進(jìn)MueTec產(chǎn)品線技術(shù)升級,以覆蓋55nm、28nm等 工藝節(jié)點(diǎn);(3)產(chǎn)業(yè)鏈:投資蘇州矽行半導(dǎo)體有限公司,研發(fā)相關(guān)領(lǐng)域的關(guān)鍵零部 件,以進(jìn)行產(chǎn)業(yè)鏈補(bǔ)充和整合。 MueTec深耕檢測量測行業(yè)三十余年,重點(diǎn)覆蓋65nm及以上制程,具備較寬產(chǎn)品線 并為多行業(yè)提供產(chǎn)品解決方案。MueTec的主要產(chǎn)品包括晶圓宏觀缺陷檢測、晶圓微 缺陷檢測、掩膜版檢測、紅外線檢測等檢測設(shè)備,以及關(guān)鍵尺寸量測、套刻精度量 測、薄膜膜厚量測、掩膜版量測、紅外線量測等量測設(shè)備,其中掩膜版、套刻精度等產(chǎn)品在國內(nèi)供應(yīng)中均具備稀缺性。MueTec主要服務(wù)于晶圓制造、先進(jìn)封裝、光掩 模版、MEMS傳感器、電子元件、OLED、LED等多個先進(jìn)制造領(lǐng)域,主要客戶包括 英飛凌、恩智浦、臺積電等。


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